高純氫制法和用途

時(shí)間：

高純氫 - 制法
開(kāi)放數據 可信數據
以電解氫為原料，經(jīng)催化脫氧、干燥、低溫吸附等凈化工藝而得。其制各方法還有低溫液化法、金屬氫化物氫凈化法、鈀膜擴散法、中空纖維膜擴散法和變壓吸附法等。

高純氫 - 用途
開(kāi)放數據 可信數據
高純氫主要用于大規模集成電路的制造，提供還原氣氛，作為配制SiH4/H2、PH3/H2、B2 H6/H2等混合氣的底氣。在電真空材料和器件生產(chǎn)過(guò)程中，對氫氣純度要求也很高。電子管的陽(yáng)極、陰極和柵極等金屬器件，都需經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)的燒氫處理。另外，在硅和砷化鎵的外延工藝中用作保護氣和運載氣。

高純氫 - 安全性
開(kāi)放數據 可信數據
******。在很高的濃度時(shí)，可出現麻醉作用。接觸液體可引起******。易燃壓縮氣體。貯存于陰涼、通風(fēng)倉庫內。倉溫不宜超過(guò)30℃。遠離火種、熱源。防止陽(yáng)光直射。應與氧氣、壓縮空氣、鹵素（氟、氯、溴），氧化劑等分開(kāi)存放。切忌混貯混運。防止撞擊和曝曬。